• Forno di ricottura al mercurio
    Questa apparecchiatura di deposizione a fascio ionico è un sistema di deposizione di film sottile ad alta-precisione progettato per la preparazione di fili metallici e film sottili a contatto ohmico nella produzione di dispositivi a...
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  • Forno di ricottura ad alta temperatura SiC
    Il forno di ricottura ad alta temperatura SiC è un'apparecchiatura specializzata per il trattamento termico costruita per la produzione di dispositivi di potenza in carburo di silicio (SiC). Viene utilizzato principalmente per eseguire...
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  • Forno di ossidazione ad alta temperatura SiC
    Questo forno di ossidazione ad alta temperatura SiC- è un dispositivo di trattamento termico specializzato costruito per la produzione di semiconduttori in carburo di silicio. Viene utilizzato principalmente per sviluppare strati di...
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  • Forno per epitassia SiC
    Il nostro forno epitassiale SiC è un'apparecchiatura specializzata costruita per la crescita omoepitassiale del 4H-SiC, un materiale centrale nei semiconduttori di terza-generazione.
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  • Forno verticale per trattamento termico
    La nostra apparecchiatura Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) è uno strumento di produzione fondamentale dedicato alla deposizione di materiali epitassiali di alta-qualità. È progettato professionalmente per la preparazione...
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  • Forno verticale di ossidazione e ricottura
    Il nostro forno verticale di ossidazione e ricottura è costruito per un trattamento termico affidabile nella produzione di semiconduttori. Gestisce l'ossidazione, la ricottura e la lega per wafer utilizzati in circuiti integrati,...
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  • Attrezzatura RTP semi-automatica
    Questa apparecchiatura RTP semi-automatica è molto pratica, in grado di elaborare wafer da 8 a 12 pollici. L'apparecchiatura RTP semi-automatica offre un controllo preciso della temperatura e un contenuto di ossigeno molto basso,...
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  • Attrezzatura RTP di ossidazione e diffusione
    L'apparecchiatura RTP di ossidazione e diffusione rappresenta uno strumento termico fondamentale per i semiconduttori, racchiudendo le capacità di ossidazione, diffusione e ricottura in una singola unità. È progettato specificamente per...
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  • Apparecchiatura RTP-di ossidazione ad alta temperatura
    L'apparecchiatura RTP di ossidazione ad alta temperatura della nostra azienda è un'apparecchiatura termica fondamentale nella produzione di semiconduttori su larga scala. È specificamente progettato per creare film di SiO₂ puliti e...
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  • Apparecchiatura RTP-a bassa temperatura
    Apparecchiatura RTP-a bassa temperatura: offre un controllo della temperatura eccezionalmente preciso da 250 gradi a 500 gradi, gestendo in modo efficace il trattamento termico di materiali come niobato di litio e silicio.
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  • Attrezzatura RTP automatica
    L'apparecchiatura RTP automatica compatibile con wafer da 8-12 pollici, caratterizzata da design a cavità singola/doppia e progettata specificamente per la produzione di massa. Integrando robot e altri componenti, consente il...
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  • Attrezzatura RTP da tavolo
    L'apparecchiatura RTP desktop Adattabile a wafer di piccole-dimensioni, l'apparecchiatura presenta un design compatto e un posizionamento flessibile. Il controllo della temperatura copre la temperatura ambiente fino a 800 gradi...
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Essendo uno dei produttori e fornitori di apparecchiature per il trattamento termico più professionali in Cina, siamo caratterizzati da prodotti di qualità e buon prezzo. Ti assicuriamo di acquistare apparecchiature per il trattamento termico personalizzate dalla nostra fabbrica. Per preventivo e listino prezzi, contattateci ora.

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