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Forno di ricottura al mercurioQuesta apparecchiatura di deposizione a fascio ionico è un sistema di deposizione di film sottile ad alta-precisione progettato per la preparazione di fili metallici e film sottili a contatto ohmico nella produzione di dispositivi a...Vedi più
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Forno di ricottura ad alta temperatura SiCIl forno di ricottura ad alta temperatura SiC è un'apparecchiatura specializzata per il trattamento termico costruita per la produzione di dispositivi di potenza in carburo di silicio (SiC). Viene utilizzato principalmente per eseguire...Vedi più
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Forno di ossidazione ad alta temperatura SiCQuesto forno di ossidazione ad alta temperatura SiC- è un dispositivo di trattamento termico specializzato costruito per la produzione di semiconduttori in carburo di silicio. Viene utilizzato principalmente per sviluppare strati di...Vedi più
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Forno per epitassia SiCIl nostro forno epitassiale SiC è un'apparecchiatura specializzata costruita per la crescita omoepitassiale del 4H-SiC, un materiale centrale nei semiconduttori di terza-generazione.Vedi più
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Forno verticale per trattamento termicoLa nostra apparecchiatura Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) è uno strumento di produzione fondamentale dedicato alla deposizione di materiali epitassiali di alta-qualità. È progettato professionalmente per la preparazione...Vedi più
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Forno verticale di ossidazione e ricotturaIl nostro forno verticale di ossidazione e ricottura è costruito per un trattamento termico affidabile nella produzione di semiconduttori. Gestisce l'ossidazione, la ricottura e la lega per wafer utilizzati in circuiti integrati,...Vedi più
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Attrezzatura RTP semi-automaticaQuesta apparecchiatura RTP semi-automatica è molto pratica, in grado di elaborare wafer da 8 a 12 pollici. L'apparecchiatura RTP semi-automatica offre un controllo preciso della temperatura e un contenuto di ossigeno molto basso,...Vedi più
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Attrezzatura RTP di ossidazione e diffusioneL'apparecchiatura RTP di ossidazione e diffusione rappresenta uno strumento termico fondamentale per i semiconduttori, racchiudendo le capacità di ossidazione, diffusione e ricottura in una singola unità. È progettato specificamente per...Vedi più
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Apparecchiatura RTP-di ossidazione ad alta temperaturaL'apparecchiatura RTP di ossidazione ad alta temperatura della nostra azienda è un'apparecchiatura termica fondamentale nella produzione di semiconduttori su larga scala. È specificamente progettato per creare film di SiO₂ puliti e...Vedi più
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Apparecchiatura RTP-a bassa temperaturaApparecchiatura RTP-a bassa temperatura: offre un controllo della temperatura eccezionalmente preciso da 250 gradi a 500 gradi, gestendo in modo efficace il trattamento termico di materiali come niobato di litio e silicio.Vedi più
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Attrezzatura RTP automaticaL'apparecchiatura RTP automatica compatibile con wafer da 8-12 pollici, caratterizzata da design a cavità singola/doppia e progettata specificamente per la produzione di massa. Integrando robot e altri componenti, consente il...Vedi più
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Attrezzatura RTP da tavoloL'apparecchiatura RTP desktop Adattabile a wafer di piccole-dimensioni, l'apparecchiatura presenta un design compatto e un posizionamento flessibile. Il controllo della temperatura copre la temperatura ambiente fino a 800 gradi...Vedi più
Essendo uno dei produttori e fornitori di apparecchiature per il trattamento termico più professionali in Cina, siamo caratterizzati da prodotti di qualità e buon prezzo. Ti assicuriamo di acquistare apparecchiature per il trattamento termico personalizzate dalla nostra fabbrica. Per preventivo e listino prezzi, contattateci ora.

