Panoramica del prodotto
Il sistema di litografia Nano 3D è una piattaforma avanzata di micro-stereolitografia (PμSL) basata su proiezione-progettata per la produzione additiva su scala micro- e nano-.
Sfruttando i sistemi ottici di grado litografia-e la tecnologia di scrittura diretta-senza maschera, la serie Ploceus raggiunge una risoluzione leader del settore-fino a1 μm, consentendo la fabbricazione di microstrutture complesse ad alto-rapporto d'aspetto-, dispositivi multi-materiale e componenti ceramici con eccezionale precisione dimensionale.
La serie comprende più livelli di precisione per soddisfare diversi requisiti industriali e di ricerca:
LSS-20– Precisione standard (20 μm)
LSS-10 /– Alta precisione (10 μm)
LSS-05– Microprecisione avanzata (5 μm)
LSS-02– Ultra precisione (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Sistemi di allineamento multi-lente (fino a 1 μm)
Con opzioni di configurazione modulare, commutazione multi-risoluzione e funzionalità di allineamento visivo, la serie Ploceus supporta sia la prototipazione rapida che la microfabbricazione ad alta-precisione.
Vantaggi
① Precisione litografica ultra-elevata
Risoluzione da20 μm fino a 1 μm
Tolleranza dimensionale fino a ±3 μm
Fabbricazione di strutture con proporzioni elevate
② Cambio di-risoluzione multipla
Commutazione rapida tra 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm
Una piattaforma per diverse esigenze di precisione
③ Compatibilità multi-materiale
Resina
Resina biocompatibile
Idrogel (ad esempio, GelMA)
Liquame ceramico di allumina
Resina tecnica ad alta-temperatura
④ Allineamento visivo ed elaborazione WYSIWYG
Monitoraggio ottico-in tempo reale
Livellamento e messa a fuoco automatici
Allineamento eterogeneo multi-materiale
Precisione dell'allineamento della sovrapposizione fino a 2,5 μm
⑤ Stampa ad alta-velocità
5–50 volte più veloce rispetto ai tradizionali strumenti di microfabbricazione
Adatto sia per la prototipazione che per la produzione di ricerca in batch
⑥ Sistema di vasche modulare e flessibile
Mini vasca (15 ml) per lo sviluppo del materiale
Grande vasca per la produzione in volume
Modulo di stampa ad alta-temperatura
Sistema di de{0}}bolle automatico
Applicazioni
Scienze biomediche e della vita
· Chip microfluidici
· Piattaforme organoidi-su-a-chip
· Array di microaghi (solidi e cavi)
· Scaffold per l'ingegneria tissutale
· Sistemi di somministrazione dei farmaci
· Stampi master PDMS
Materiali avanzati e metamateriali
Strutture reticolari ceramiche
Metamateriali gradienti
Superficie minima tripla periodica (TPMS)
Metamateriali meccanici
Ponteggi in ceramica porosa
Micro-dispositivi meccanici e funzionali
· Microingranaggi
· Microconnettori
· Metasuperfici ottiche
· Micro-molle
· Microstrutture funzionali
Parametri
|
Modello |
Precisione della litografia |
Spessore minimo dello strato |
Tolleranza di stampa |
Formato di stampa massimo |
Sistema di lenti |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50mm |
Lente singola |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50mm |
Lente singola |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50mm |
Lente singola |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Doppia lente |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Doppia lente (allineamento) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50mm |
Tripla lente (allineamento) |
Domande frequenti
D: 1. Quale tecnologia utilizza questo sistema?
R: Il sistema si basa sulla micro-stereolitografia (PμSL) e sulla tecnologia di litografia a scrittura diretta-senza maschera, che consentono la fabbricazione 3D su scala micro/nano-ad alta-precisione.
D: 2. Qual è la massima risoluzione disponibile?
R: A seconda del modello, la precisione della litografia varia da:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
fino a 1 μm (PL-3D-PT)
D: 3. Quali materiali sono supportati?
R: Il sistema supporta un'ampia gamma di materiali, tra cui:
Resine funzionali
Resine biocompatibili
Resine tecniche ad alta-temperatura
Idrogel (ad esempio, GelMA)
Liquame ceramico di allumina
La compatibilità dei materiali personalizzati è disponibile su richiesta.
D: 4. Può stampare strutture ceramiche?
R: Sì. I modelli selezionati supportano la stampa di impasto ceramico, consentendo la fabbricazione di impalcature ceramiche porose, strutture reticolari e metamateriali.
D: 5. Il sistema supporta la stampa multi-materiale?
R: Sì. I modelli avanzati (PL-3D-PD / PL-3D-PT) supportano la stampa con allineamento eterogeneo multimateriale con precisione di allineamento della sovrapposizione fino a 2,5 μm.
D: 6. Quali formati di file sono supportati?
R: Il sistema supporta il formato STL per l'input del modello 3D.
D: 7. Qual è la dimensione massima di stampa?
R: A seconda del modello, la dimensione di stampa supportata può arrivare fino a:
50 mm×50 mm×50 mm
Sono disponibili configurazioni di vasche personalizzate.
D: 8. Per quali settori è adatto questo sistema?
R: Le applicazioni tipiche includono:
Fabbricazione di chip microfluidici
Array di microaghi
Scaffold per l'ingegneria tissutale
Metamateriali
Metasuperfici
Dispositivi micro-meccanici
È ampiamente utilizzato nella ricerca biomedica, nei materiali avanzati e nei campi della microfabbricazione.
D: 9. Quali sono i requisiti di installazione?
R: Temperatura: 20–40 gradi
Umidità: umidità relativa < 60%
Ambiente di laboratorio standard
Per il funzionamento di base non è necessaria alcuna camera bianca (a seconda delle esigenze dell'applicazione).
D: 10. Come si confronta con le stampanti 3D SLA o DLP convenzionali?
R: Il sistema Ploceus offre:
Precisione ottica di grado-litografia
Risoluzione a livello di-micron (1–5 μm)
Maggiore stabilità dimensionale
Funzionalità di allineamento multi-materiale
È progettato per la micro/nanofabbricazione piuttosto che per la prototipazione generale.
Etichetta sexy: sistema di litografia nano 3D, produttori di sistemi di litografia nano 3D in Cina, fornitori
