Panoramica del prodotto
Il nostro sistema di litografia a fascio E- è un'apparecchiatura di fascia alta-realizzata per la creazione di modelli su scala micro- e nano--qui utilizziamo fasci di elettroni ad alta-energia per la scrittura diretta. Ottenendo un controllo preciso sul modo in cui il fascio di elettroni scansiona ed espone la superficie del campione, è possibile eseguire pattern senza maschera con una risoluzione davvero elevata. È dotato di ottica elettronica avanzata, correzione-delle aberrazioni in tempo reale e imaging multi-modalità. Tutto ciò lo rende un punto di riferimento-per la ricerca e lo sviluppo e la fabbricazione in-campi all'avanguardia: semiconduttori, fotonica, tecnologia quantistica e tanto altro.
Vantaggi
1. Modellazione ad altissima-precisione: raggiunge una risoluzione su-scala nanometrica-più che sufficiente per soddisfare le difficili esigenze di fabbricazione che potresti avere.
2. Scrittura diretta senza maschera, flessibile ed efficiente: qui non sono necessarie maschere fisiche. Ciò significa che puoi modificare i progetti in tempo reale, ridurre notevolmente i tempi di sviluppo e risparmiare anche sui costi delle maschere.
3. Imaging multi-modalità: combina l'imaging degli elettroni secondari (SE) e degli elettroni retrodiffusi (BSE). Ciò ti consente di osservare e allineare gli oggetti in-situ mentre avviene l'esposizione-molto utile per la precisione.
4. Correzione intelligente dell'aberrazione: dispone di una correzione automatica dell'aberrazione della deflessione. Ciò garantisce che i motivi rimangano uniformi e accurati, anche quando si espongono aree di grandi dimensioni.
5. Elevata compatibilità di processo: funziona con una varietà di materiali e tipi di substrati. Che tu stia facendo ricerca e sviluppo o producendo piccoli-lotti, è la soluzione perfetta.
Applicazioni
Questo sistema viene messo in pratica in una serie di aree e processi chiave, in modo piuttosto ampio:
1. Chip semiconduttori composti: stiamo parlando, ad esempio, della fabbricazione di strutture fini-come i T-gate nei dispositivi HEMT.
2. Chip quantistici: modellazione di componenti su scala nano-come punti quantici e circuiti superconduttori; questi sono fondamentali per lo sviluppo della tecnologia quantistica.
3. Dispositivi fotonici: lavoro di esposizione per reticoli ottici, metasuperfici, cristalli fotonici-tutte le strutture che alimentano i sistemi fotonici.
4. Dispositivi elettronici avanzati: supporta le esigenze di modellazione di materiali a bassa-dimensione e nano-dispositivi, che in questo momento sono fondamentali per la ricerca di frontiera.
5. Realizzazione di maschere a semiconduttore: capacità di scrittura diretta per fotomaschere ad alta-precisione, un passaggio fondamentale nella produzione di semiconduttori.
Domande frequenti
D: Cos'è un sistema di litografia a fascio E-?
R: Uno strumento ad alta-precisione che utilizza la scrittura diretta con fascio di elettroni per modelli senza maschera su scala nanometrica-nella micro/nanofabbricazione.
D: Quale risoluzione fornisce?
R: Offre una risoluzione su scala nanometrica-per la creazione di modelli ad altissima-precisione.
D: Quali sono le principali applicazioni?
R: Ampiamente utilizzato per chip semiconduttori, chip quantistici, dispositivi fotonici, nano-dispositivi e fabbricazione di fotomaschere.
D: Quali sono i principali vantaggi?
R: Scrittura diretta senza maschera, elevata flessibilità,-adeguamento del design in tempo reale, basso costo e ampia compatibilità dei materiali.
D: Supporta l'imaging in-situ?
R: Sì, con imaging SE/BSE integrato per l'osservazione-in tempo reale e l'allineamento durante l'esposizione.
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